Chapitre 2 - Tel Archives ouvertes
This work focuses on the development of in situ plasma treatments performed
after the etching of the imprint of metallic line into the dielectric material. ...... La
CMP est un procédé au cours duquel une réaction chimique accompagne un
polissage mécanique afin d'obtenir une surface la plus lisse possible : la plaque
à polir ...
Autres Cours:
